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    工藝流程:


    手機攝像模組支架清洗:去除有機物,活化材料表麵,提高親水性和黏附性能,防止溢膠。

    支架擺放 等離子處理中 等離子處理前:70.5° 等離子處理後:42°

    手機攝像模組W/B前清洗:去除有機物,提高W/B結合力,確保打線可靠性。
    方案一:多層水平電極+篩網托架

    工件 水平放置 等離子處理前:74.5° 等離子處理後:

    方案二:多層料盒

    料盒 等離子處理中 等離子處理前:74.5° 等離子處理後:18°

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