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    返回列表 來源:水蜜桃免费视频 瀏覽: 發布日期:2020-10-15 10:46【
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           據了解,荷蘭ASML在其三季度的財報中指出,其新款光刻機預計將在2021年年中開始出貨的,新款光刻機的生產效率約將有18%的提升,在30mJ/cm2的曝光速度下每小時可處理的晶圓數可達160片。如果這款光刻機與ASML之前2019年的年報中提及的新光刻機為同一款的話,那麽ASML的新款光刻機的出貨時間,就較原計劃提前約半年。
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           ASML的極紫外光刻機對先進芯片製程工藝的重要性就不用多說了,台積電和三星這兩的7nm和5nm工藝,都必須依靠ASML的EUV光刻機,預計新款EUV光刻機出貨後,也將由台積電和三星先開始使用。
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           此外,ASML目前的兩款EUV光刻機,都是采用的波長為13.5nm的極紫外光源,在20mJ/cm2的曝光速度下,其每小時的晶圓處理量分別能達125片和170片。

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