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    氧氣(O₂):常用於去除有機物汙染。氧氣在等離子體狀態下產生的活性氧原子可以與有機物發生氧化反應,將其轉化為二氧化碳、水等揮發性物質,從而達到清洗的目的。
    氬氣(Ar):常用於表麵活化。氬氣等離子體中的氬離子具有較高的能量,能夠通過物理轟擊作用去除材料表麵的吸附層、氧化物等,使表麵得到活化,提高表麵活性。
    氮氣(N₂):氮氣可用於一些對表麵性質有特定要求的處理過程,例如在某些情況下,氮氣等離子體可以在不改變材料基本化學性質的前提下,對表麵進行清洗和活化,或者用於調整表麵的粗糙度和化學組成。
    氫氣(H₂):氫氣可以與一些金屬氧化物發生還原反應,用於去除金屬表麵的氧化層。此外,氫氣等離子體還可用於某些材料的表麵改性,改變材料表麵的化學結構和性能。
    空氣:在一些簡單的清洗或活化應用中,空氣也可以作為工作氣體。空氣等離子體可以去除表麵的灰塵、有機物等汙染物,並且成本較低,使用方便。

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