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    工作原理
           微波激發等離子體:通過微波電磁場(頻率通常為2.45 GHz)將氣體(如氧氣、氬氣、氮氣等)電離,形成高能等離子體。
           表麵反應:等離子體中的活性粒子(離子、電子、自由基等)與材料表麵汙染物發生物理轟擊或化學反應,分解有機物、氧化物等,實現清潔或改性。
    結構組成

           微波發生器:產生高頻微波,核心部件之一。
           真空腔體:維持低壓環境,確保等離子體穩定生成。
           供氣係統:控製反應氣體種類和流量。
           樣品台:可旋轉或移動,確保處理均勻。
           控製係統:自動化操作,調節功率、壓力、時間等參數。
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    應用領域
           半導體製造:用於芯片製造過程中的光刻膠去除、晶圓表麵清洗、刻蝕等工藝,提高芯片的製造精度和性能。
           電子器件製造:對電子元件如電路板、電子封裝材料等進行表麵清洗和活化,增強焊接效果,提高電子器件的可靠性和穩定性。
           光學領域:清洗光學鏡片、光學薄膜等表麵的油汙、灰塵和有機物,提高光學元件的透光率和光學性能,同時可用於光學元件的表麵改性,改善其抗反射、抗汙染等特性。
           生物醫學:對生物材料、醫療器械等進行表麵處理,如提高生物材料的生物相容性、對醫療器械表麵進行消毒和活化,有利於細胞的粘附和生長,以及後續的塗層和修飾等。
           航空航天:處理航空航天材料表麵,如去除表麵氧化層、增強塗層附著力等,提高材料的性能和使用壽命,確保航空航天部件的可靠性和安全性。
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      ‌廣泛適用‌:適用於多種材料表麵,包括金屬、陶瓷、玻璃、塑料等,不會對材料性能產生負麵影響。

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